荷蘭擬夏季前公布，限制向中國出口尖端晶片製造設備

　　面對美國的施壓，荷蘭預計夏季前，限制部分晶片製造設備對華出口，以阻止中國獲得關鍵的半導體技術。

　　據荷蘭外貿部長周三(8日)發給議員的信函，基於國家和國際安全的理由，荷蘭政府擬提議限制浸沒式DUV光刻機的出口，這意味著對最尖端光刻機出口管制進一步收緊，而這類產品恰好是生產全球最先進晶片的關鍵。

　　按市值計算，荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾(ASML)是歐洲最大科技公司，也是全球某些光刻系統的唯一製造商。雖然ASML長期以來一直被禁止向中國企業出售其最先進的技術(極紫外光刻)，但最新的提案等於是把比極紫外光刻更低一檔的產品也禁止了。

新出口管制只針對「最先進的」工具，或未達美國要求

　　ASML周三在另一份聲明中表示，這些措施將不會對2023年或更長時期的財務展望產生重大影響。但該公司稱，其最先進的DUV系統需要申請出口許可。

　　ASML表示，重要的是要考慮到額外的出口管制並不適用於所有浸沒式光刻工具，而是只針對「最先進的」工具。該公司稱尚未就所謂「最先進」的確切定義獲得指導意見。

　　如果ASML所言屬實，那麼荷蘭的新規定可能達不到美國對本國晶片設備行業施加的限制標準。ASML的美國競爭對手目前的經營受到多項制約，包括機器可以生產什麼產品，以及是否可以派人到中國工作。

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