25,186.81
-66.59
(-0.26%)
25,115
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低水72
8,506.11
+4.20
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4,961.31
-14.05
(-0.28%)
679.38億
4,064.35
+6.57
(+0.162%)
4,914.55
+9.80
(+0.200%)
15,612.83
-48.74
(-0.311%)
2,898.20
+10.54
(+0.37%)
63,396.0000
-489.9900
(-0.767%)
日本製鐵(ADR)

此證劵未有在 紐約證劵交易所(NYSE)納斯達克交易所(NASDAQ)美國證劵交易所(AMEX)上市。

  • 最高
  • --
  • 最低
  • --
  • 成交股數
  • 0.000
  • 成交金額
  • 0.000
  • 前收市
  • --
  • 開市
  • --
  • 買入
  • --
  • 賣出
  • --
  • 市值
  • 181.35億
  • 貨幣
  • USD
  • 交易宗數
  • --
  • 每宗成交金額
  • --
  • 波幅
  • 4.750%
  • 交易所
  • OOTC
  • 1個月高低
  • 52周高低
  • 市盈率/預期
  • --/--
  • 周息率/預期
  • --/5.19%
  • 10日股價變動
  • --
  • 風險率
  • 0.272
  • 振幅率
  • 1.159%
  • 啤打系數
  • 0.629

報價延遲最少15分鐘。美東時間: 04/06/2026 19:59:45
紅色閃爍圓點標示當前所處的交易時段。

27/05/2026 00:44

美股動向 | SK海力士推革命性「iHBM」散熱技術

  《經濟通通訊社27日專訊》南韓記憶體巨擘SK海力士(US.HXSCL)宣布,推出具備突破性的「iHBM」控溫散熱技術。面對人工智慧晶片日益嚴苛的高溫挑戰,該技術透過在HBM封裝內部直接整合一體化冷卻元件,能大幅降低產品運作時的發熱量。

 

  有別於傳統HBM需仰賴核心晶片向外傳導的間接散熱模式,SK海力士的「iHBM」技術從封裝結構層面進行了根本性的改良。其核心在於將採用絕緣且具備高導熱性矽基材料製成的冷卻元件,直接嵌入於熱量最為密集的D2D PHY區域內。這項創新設計在記憶體內部建構一條專屬的散熱通道,成功使系統熱阻大幅下降超過30%,確保晶片在持續高溫與高負載環境下依然能維持穩定運行。(kk)

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